Fiche équipement Désignation équipement VPD-ICPMS Description: Principe Le couplage de la Décomposition en Phase Vapeur (VPD) avec la Spectrométrie de Masse par Torche Plasma (ICP-MS) est une technique d’analyse physico-chimique permettant l’identification et la quantification des concentrations surfacique ou volumique des traces d’éléments chimiques. Principales caractéristiquesEchantillons : plaques de silicium de diamètres 6, 8 et 12 poucesFilms analysables : SiO2, SixNy , SiON, Poly-Si, c-Si Surface analysée : de 2 cm² à la totalité de la plaqueAnalyse en volume : profondeur 0.1 mm (pleine plaque), 20 mm (local)Limites de détection : variables en fonction de l’élément, de la surface et/ou du volume analysé (de 1.10 E7 à 5.10 E9 at/cm² pour les analyses de surface ou films minces et de 1.10 E12 à 1.10 E14 at/cm3 pour les analyses volumiques dans le silicium) Nom de l’équipement VPD-ICPMS Marque IAS / PerkinElmer Modèle Expert / NexION 300S
